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反應動力學原位裝置

X射線散射&透射反應釜（DMHK-XS -200）

反應動力學原位設備

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一、產品簡介 原位X射線散射&透射反應裝置（DMHK-XS -200）是一款適用于液體環境的X射線散射原位測試（兼容透射模式XAFS）的原位裝置，能夠提供真實原位水熱環境、攪拌環境，溫度、攪拌速率以及中間液層厚度均可適當調節；反應釜光學窗口結構設計與出射張角可滿足散射和透射測試需求；反應釜在底部集成了磁力攪拌，實現了反應釜內部溫控、攪拌的一體化設計，并在應用軟件中集成了溫控和攪拌的顯示及控制功能，充分滿足液體環境X射線散射&透射原位測試需要。
高溫高壓臨界反應裝置（DM-HPHTCR-200/20）

反應動力學原位設備

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一、產品簡介 原位高溫高壓臨界反應裝置（DM-HPHTCR-200/20）是一款適用于高溫高壓臨界反應的原位測試裝置。該裝置采用自加熱方式，最高使用溫度為250℃。可通過外部增壓裝置對整個裝置進行增壓反應，最高耐受壓力為20MPa。適用于不同溫度和壓力條件下的臨界反應過程中的X射線小角散射實驗。
原位 X 射線透射反應釜（HK-XT-250）

反應動力學原位設備

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一、產品簡介 原位 X 射線透射反應釜（HK-XT-250）是一款適用于高濃度條件下液體環境的同步輻射 X 射線吸收譜原位測試（透射模式）的原位裝置，原位 X 射線透射反應釜能夠提供真實原位水熱環境、攪拌環境，溫度、攪拌速率以及中間液層厚度均可適當調節；反應釜在底部集成了磁力攪拌，實現了反應釜內部溫控、攪拌的一體化設計，并在應用軟件中集成了溫控和攪拌的顯示及控制功能，充分滿足液體環境 X 射線吸收光譜原位測試需求。
高溫高壓水熱拉曼裝置（DMHK-HPRa-250）

反應動力學原位設備

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一、產品簡介 高溫高壓水熱拉曼原位裝置（DMHK-HPRa-250）是一款適用于高溫高壓條件下氣液/氣液固相反應的原位拉曼裝置，該裝置通過加熱蛆件為樣品提供高溫環境，通過配套溫度控制系統的精確控制調節，可實現RT-250°C范圍的溫度控制，控溫精度為±1°C。裝置配備有1個拉曼窗口。裝置通過直通球閥連接外部加壓裝置，對樣品腔內加壓，樣品腔材質為316L不銹鋼材質，可耐一定程度的酸堿腐蝕，樣品腔內部結構合理設計 ,可避免加溫時蒸汽對窗口的影響。裝置整體和窗口、腔體等部分合理設計，保證耐壓不低于3MPa。
原位液體紫外反應釜（DMHK-LU-160）

反應動力學原位設備

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一、產品簡介原位液體紫外反應釜（DMHK-LU-160）是一款可應用于液體環境的紫外可見吸收光譜原位測試（均相催化研究等）的原位測試裝置。原位液體紫外反應釜能夠提供真實的原位水熱環境、攪拌環境，溫度、攪拌速率均可適當調節；其結構設計上則充分考慮了紫外可見吸收光譜的測試需求，設置了相應的光學窗口，窗口間距可在8-12mm范圍內適當調節，窗口中心高度可保證與紫外光譜設備的良好匹配；此外反應釜在底部集成了磁力攪拌，實現了反應釜內部溫控、攪拌的一體化設計，并在應用軟件中集成了溫控和攪拌的顯示及控制功能，充分滿足液體環境紫外可見吸收光譜原位測試需求。

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